Publicaciones

Enabling Low Temperature Aluminum Nitride ALD by Use of a Novel Hydrazine Source

Autores

ALVAREZ LORENZO, DANIEL, Spiegelman, Jeffrey J. , Andachi, Keisuke , Kondusamy, Aswin , Kim, Jiyoung , IEEE

Publicación externa

Medio

2019 Compound Semiconductor Week (csw)

Alcance

Proceedings Paper

Naturaleza

Científica

Cuartil JCR

✗

Cuartil SJR

✗

Fecha de publicacion

01/01/2019

ISI

000539485600353

Miembros de la Universidad Loyola